卖价超10亿 ASML新款EUV光刻机年底出货 2nm离不了

芯片制造企业台积电计划于今年度内开始大批量生产他们最新的 3NM 技术，三星也是，两家还要在2025年左右量产2nm工艺，对EUV光刻工艺的需求更高，而ASML今年底也会出货新款EUV光刻机NXE:3800E，2nm工艺就靠它了。

NXE:3800E光刻机的曝光能力将达到30mJ/cm2，WPH每小时产能大约是195片晶圆，后续还会提升到220片晶圆/小时，高端手机的产能比我们当前主流的型号还要高出至少30%以上。

至于售价，NXE:3800E的价格还没有权威说法，但是此前EUV光刻机就卖到1.5亿美元以上，这两年还有通胀等因素，价格10亿起步是少不了的。

NXE:3800E光刻机今年底出货的话，考虑到安装、调试及生产的周期，未来台积电、三星会主要在2nm节点使用，而高NA孔径的下一代光刻机要解决的是1nm及之后的工艺。目前，全球最先进的euv光刻机已经进入量产阶段，预计明年下半年可以交付。这意味着中芯国际的7nm、5nm工艺将不再受制于人。

（编辑：银川站长网）

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