ASML官网显示 支撑7nm高端DUV光刻机仍可出口

根据ASML官网提供的情况看，该公司目前在售的主流浸没式DUV光刻机产品共有三款，分别是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。

理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产14nm及以上工艺的芯片，很少去生产14nm以下的工艺,因为质量率低、成本高,没有竞争力。

阿斯麦3月曾表示，预计2000i和2050i这两款产品会受到荷兰政府的出口限制。再对比阿斯麦今天的回应来看，TWINSCAN NXT:1980Di这款浸润式DUV光刻机并不在限制范围内。

ASML官网上关于这一台TWINSCAN NXT:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm（可以支持到7nm左右），而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。在制造工艺方面，采用的是euv光刻机，而不是duv光刻机。在芯片设计方面，采用的是台积电的7nm工艺，而不是三星的5nm工艺。

（编辑：银川站长网）

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