ASML找强援 加快推进新一代光刻机

比利时微电子研究中心 ( IMEC)和阿斯麦 (ASML)共同发布消息,双方将在开发先进高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻试验线的下一阶段加强合作。

Fouquet表示，EUV光源输出功率一直稳步增加，ASML传统型号EUV光源输出功率为250W~300W，最新型号3600D增加到350W，现在研究层面已做到600W，800W指日可待。

DUV、ArF、EUV和High-NA EUV技术形成图案的每个晶体管成本都不断变化，考量到新技术价格一定高于EUV每套3亿美元，High-NA EUV价格将非常可观，但仍取决于不同的客户使用要求和不同的开发成本。

在这之前，光刻机大厂ASML高管对外表示，半导体业只有通力合作，建立完全自主的产业链，即使并非不可能也会极其困难。但是现在看来，中国企业已经走在了前面。在光刻机领域，中国企业的实力已经不容小觑。

（编辑：银川站长网）

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